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高真空PECVD係統

高真空PECVD係統

高真空PECVD係統

小优茄子视频高真空PECVD係統是由管式爐,真空係統、供氣係統、射頻電源係統等組成。係統主要應用於金屬薄膜,陶瓷薄膜等,複合薄膜,石墨烯等生長。

產品概述:
   小优茄子成视频人app下载高真空PECVD係統是由管式爐,真空係統、供氣係統、射頻電源係統等組成。係統主要應用於金屬薄膜,陶瓷薄膜等,複合薄膜,石墨烯等生長。PECVD係統增加功能容易,可擴展等離子清洗刻蝕等功能,PECVD係統薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。

高真空PECVD係統主要特點

1.通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。

2.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。

3.可以通過射頻電源的頻率來控製所沉積薄膜的應力大小。

4.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。

5.廣泛應用於:各種薄膜的生長,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型矽(a-Si:H) 等。

技術參數:

產品名稱

高真空PECVD係統

滑軌管式爐部分

產品型號

PT-T1200

爐管尺寸

Φ50mmX1600mm

爐管材質

石英管

加熱區

300mm

工作溫度

1100℃

最高溫度

1200℃

溫控方式

K型熱電偶

控製方式

觸屏控製,帶獨立搖臂,可以根據實際使用需求,調節溫控屏的角度,使用更方便

控溫精度

±1℃

溫控保護

具有超溫和斷偶保護功能

升溫速率

0-20ºC/min  ,建議10ºC/min

加熱元件

含鉬電阻絲

工作電壓

AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定製)

加熱功率

3KW

爐膛材料

氧化鋁多晶纖維

爐體結構

爐體帶滑軌,可實現快速升溫和降溫

法蘭接頭

標配配有兩個不鏽鋼真空法蘭,已安裝機械壓力表和不鏽鋼截止閥

密封係統

該爐爐管與法蘭之間采用矽膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重複撤卸,氣密性好。

殼體

不鏽鋼殼體

選配

輔助降溫風扇

                     真空係統部分

名稱

真空係統

主要參數

1.采用進口安捷倫高真空分子泵組,極限真空度可達10-3pa

2.KF25快接,不鏽鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連;

3.數字式真空顯示,其測量範圍為5×10-5- 1500mbar,測量精度高高

氣路係統部分

名稱

四路質量流量計

主要參數

四通道精密質量流量計:觸屏控製,數字顯示,自動控製。流量範圍流量範圍:

1.MFC 1-MFC4:0-1000sccm可調

2.一個混氣罐

3.4個不鏽鋼針閥安裝在供氣係統的左側,可手動控製4種氣體;

4.進出氣口:3進1出

流量控製:手動旋轉式調節

連接方式:雙卡套連接

等離子電源部分

名稱

500W等離子電源

功率範圍

0-500W(連續可調)

工作頻率

13.56MHZ+0.005%

工作模式

連續輸出

射頻輸出阻抗接口

N-type,female(50Ω)

功率穩定度

≤2W

最大反射功率

70W

電源保護設置

DC過流保護,功放過溫保護,反射功率保護

供電電壓/頻率

單相交流(187V-253V)50-60HZ

冷卻方式

風冷

整機尺寸

88X483X550 MM

整機重量

13.5KG

認證

ISO認證、CE認證

售後服務

質保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬於質保範圍)

高真空pecvd係統
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