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PECVD實驗室加熱管式爐

PECVD實驗室加熱管式爐

PECVD實驗室加熱管式爐

PECVD實驗室加熱管式爐可達到1600℃,精密溫度控製器將提供30段加熱和冷卻步驟,精度為+/- 1°C。

產品概述:
PECVD實驗室加熱管式爐可達到1600℃,精密溫度控製器將提供30段加熱和冷卻步驟,精度為+/- 1°C。該爐係統還包括一個耐腐蝕的皮拉尼電容膜片式壓力計,可對腐蝕性氣體進行真空測量。

產品應用:
PECVD實驗室加熱管式爐通過微波或射頻使含氣體電離的薄膜形成氣孔,在局部等離子體中形成,且等離子體化學活性很強,易於反應,在所希望的薄膜上沉澱出所需的薄膜,因此被廣泛使用高質量的SiO2薄膜,金剛石薄膜,硬質薄膜,光學薄膜和CNT等。


產品特點:
1.上下部結構,易於取放管子 ;
2.可編程和PID自動控製 ;
3.金屬按鍵或觸摸屏操作界麵供您選擇

4.進口節能箱材料

5.爐膛采用雙襯裏結構,中間有間隙隔離,即使爐溫高達1600,爐體表麵仍可安全觸摸;
6.爐內裝有輸出電壓和輸出電流檢測表,可以看到實時加熱狀態  。

技術參數:
模型 PT-1200PECVD PT-1400PECVD PT-1700PECVD
最高 溫度 1200 1400 1700
工作溫度 1100 1300 1600
加熱元件 鉬電阻絲 碳化矽 MoSi2
熱電偶 K型  S型 B型
管材 高純石英 氧化鋁 氧化鋁
箱體材質 陶瓷纖維
加熱速度 0-20
溫度控製精度 +/- 1
溫度均勻度 +/- 5
額定功率 110-415V,50 / 60Hz
等離子電源 200/300/500/1000瓦
氣體控製 浮子流量計/質量流量計
真空單元 旋轉葉片/擴散/渦輪分子泵
保證 一年有限保修(保修範圍內的消耗品

可根據客戶要求定做更多
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