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1200℃化學氣相沉積設備

1200℃化學氣相沉積設備

1200℃化學氣相沉積設備

化學氣相沉積設備 由2或3.14O.D可選分流管爐,帶氣體混合罐的4通道精密質量流量計和高質量機械泵組成。

產品概述:

化學氣相沉積設備由2或3.14O.D可選分流管爐,帶氣體混合罐的4通道精密質量流量計和高質量機械泵組成。

這款化學氣相沉積金剛石機器CVD爐是沉積薄膜或將納米線從氣態(蒸氣)變成固態的理想且價格合理的工具,其優點是:

1.與常規CVD相比,溫度處理更低。

2.膜應力可以通過高頻/低頻混合技術來控製。

3.通過工藝條件控製化學計量。

4.提供廣泛的材料沉積,包括SiOx,SiNx,SiOxNy和非晶矽(a-Si:H)沉積。
 

產品特點:

1.爐膛采用進口氧化鋁多晶纖維,有效隔熱 ,節能;

2.進口加熱元件,大大提高其使用壽命,高密度進口氧化鋁管子,經久耐用,不易折斷;

3.預留真空,氣路快速接口,可配合小优茄子视频app的真空係統或混合係統使用;

4.超溫報警及停電,漏電保護,運行安全可靠。

5.根據您的要求提供智能的空氣泄漏測試儀/氣體泄漏報警係統。


化學氣相沉積應用:

這款化學氣相沉積金剛石機器CVD爐廣泛用於1200℃下各種CVD實驗反應溫度,也可用於真空燒結,真空保護氣氛燒結納米材料製備,電池材料製備等研究領域。

分體式爐 

 

1200C化學氣相沉積機CVD爐

輸入功率:208 – 240V AC,1.2kW

 

最高1700°C 工作溫度<60分鍾

 

最高1600°C連續加熱

 

高純度石英管2“ OD x 1.7” ID x 39.4“長度 

 

30段可編程精密數字溫度控製器

8英寸(200毫米),單個區域。2.3英寸(60毫米)  

溫度計

 

1200C化學氣相沉積機CVD爐

   

      30段PID自動智能溫度控製

 

      溫度精度可達uo +/- 1C

 

      溫升迅速冷卻空冷或水冷係統

真空法蘭和配件

 

1200C化學氣相沉積機CVD爐

真空法蘭套件由304不鏽鋼製成。 

 

左法蘭組件包括一個KF-25真空端口,兩個KF-25 

快速夾緊。

 

一個KF-25直角閥,一個KF-25真空波紋管,一個法蘭 

支持1/4 OD  軟管接頭和針形閥。

 

真空泵 

1200C化學氣相沉積機CVD爐

交流220V 50 Hz 1 / 2HP 375W

 

2升/ S或120升/米 

 

已安裝集油器(入口)和排氣過濾器(出口)。

保證 

一年有限保修,提供技術支持

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