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立式PECVD設備

立式PECVD設備

立式PECVD設備

立式PECVD係統,由真空立式管式爐、射頻電源、供氣係統、石英真空室、真空測量係統組成。

產品概述:
PECVD係統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜,此立式PECVD設備真空立式管式爐、射頻電源、供氣係統、石英真空室、真空測量係統組成。

 

PECVD係統配置:

1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質量流量控製係統

4.真空係統
 

 

產品特性:

立式PECVD設備溫度範圍寬;濺射區域長;整管可調;精致小巧,性價比高,可實現快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,複合薄膜等的理想選擇。立式PECVD係統以含鉬電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表,移相觸發、可控矽控製,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場均衡、表麵溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。


 

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