產品概述：
四路高溫真空CVD設備由滑動式快速退火管式爐+真空係統+供氣係統組成 ，最高溫度可以達到1200度，極限真空可以達到10-3Pa，供氣係統是流量調節可以是質子流量計，可以對多種氣體進行精確的混氣，然後導入到管式爐內部。 KJ-T1200-S60K-4C係列快速退火爐爐管兩端安裝真空法蘭，真空度用分子泵可以到10-5Torr，機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率最大可達100°C/m。為取得最快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然後移動爐子到樣品位置。為獲得最快冷卻，可在樣品加熱後移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s，是低成本快速熱處理的理想爐子。
適用範圍：
四路高溫真空CVD設備是一種特殊的高真空CVD係統，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、CVD塗層、真空退火用的理想產品。
標準配件：
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氣煉石英爐管×1 |
浮子混氣係統×1 |
真空係統×1 |
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高溫手套×1 |
坩堝鉗×1 |
熱電偶×1 |
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剛玉坩堝×2 |
爐塞×2 |
中文說明書×1 |
注：爐管、坩堝可按用戶需求選配合適的款型
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產品名稱 |
四路高溫真空CVD設備 |
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產品型號 |
PT-T1200-S60K-4C |
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工作溫度 |
1100℃(可選) |
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最高溫度 |
1200℃（最高可選1700℃） |
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加熱 區 |
三溫區（可定製） |
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加熱區長度 |
200+350+200mm（可根據需求定製） |
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加熱速率 |
建議：0- 10°C/min {最大：0-20℃/min} |
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溫控精度 |
±1℃（具有超溫及斷偶報警功能） |
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加熱元件 |
摻鉬鐵鉻鋁合金（表麵塗有氧化鋯塗層，使其最大程度延長使用壽命） |
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加熱速率 |
0~20 ℃ / 分 |
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工作電壓 |
220V，50HZ，單相 |
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功 率 |
4KW |
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控溫方式 |
智能化30段可編程控製（用戶可選配液晶觸摸屏顯示） |
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質子流量計 |
4路精密質子流量計：數字顯示、氣體流量自動控製。 MFC 1範圍: 0~100 sccm MFC 2範圍: 0~200 sccm MFC 3範圍: 0~200 sccm MFC 4範圍: 0~500 sccm 。 |
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電氣認證 |
CE認證 |
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售後服務 |
12個月質保、終身保修 |
