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1200℃高溫真空CVD塗層設備

1200℃高溫真空CVD塗層設備

1200℃高溫真空CVD塗層設備

高溫真空CVD設備由滑動式快速退火管式爐+真空係統+供氣係統組成 ,最高溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣係統是流量調節可以是質子流量計

產品概述: 
高溫真空CVD設備由滑動式快速退火管式爐+真空係統+供氣係統組成 ,最高溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣係統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合,可以對多種氣體進行精確的混氣,然後導入到管式爐內部。 快速退火爐爐管兩端安裝真空法蘭,真空度用分子泵可以到10-5Torr,機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌,可用手動滑動。加熱和冷卻速率最大可達100°C/m。為取得最快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然後移動爐子到樣品位置。為獲得最快冷卻,可在樣品加熱後移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s,是低成本快速熱處理的理想爐子。
 
適用範圍:
高溫真空CVD設備廣泛用於各種反應溫度在1200℃左右的CVD實驗,也可用於:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料製備、電池材料製備等多研究領域。它是一種特殊的高真空CVD係統,是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、CVD塗層、真空退火用的理想產品。
 
標準配件:
氣煉石英爐管 4路質子流量計 熱電偶
氣煉石英爐管×1 浮子混氣係統×1 真空係統×1
高溫手套 坩堝鉤 熱電偶
高溫手套×1 坩堝鉗×1 熱電偶×1
剛玉坩堝 爐塞 馬弗爐中文說明書
剛玉坩堝×2 爐塞×2 中文說明書×1
注:爐管、坩堝可按用戶需求選配合適的款型
 
 
結          構 采用雙層殼體結構,並帶有分冷,使得殼體表麵的溫度小於55°C。保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維
可以環保節能,減少熱量的損失內爐膛表麵塗有進口的高溫氧化鋁塗層可以提高設備的加熱效率,
同時也可以延長儀器的使用壽命
加熱元件 摻鉬合金加熱絲
正常工作溫度 1100℃(可選)
最高溫度 1200℃(可選擇)
最大升溫速率 20°C/min (建議:0- 10°C/min)
加熱區長度 400mm (18")/td>
恒溫區長度 180mm(+/-1°C)
溫控精度 ±1℃(具有超溫及斷偶報警功能)
溫控係統 一個精密溫度控製器 PID方式控製,通過可控矽 SCR可設置30段升降溫程序。
密封法蘭 兩個不鏽鋼密封法蘭,法蘭上已經安裝數字式真空顯示計,和閥門通過機械泵
真空壓力可以達到5x10-2 torr, 泄漏率最大6 mtorr/min
工作電壓 220V,50HZ,單相
功 率 5KW
真空泵和配件 真空泵:      一個雙旋片式機械泵安裝在移動架內通過此機械泵真空度可以達到 5x10^-2 torr
標配的真空配件  : 一對不鏽鋼 密封法蘭和KF-25 真空泵接口,兩個不鏽鋼針閥, 1/4"的軟管接頭一個1000mm長的
KF-25 不鏽鋼波紋管和四個KF-25不鏽鋼快速卸裝卡箍一個LED數字式真空顯示計(測量範圍: 0.1mtorr ~ 850 torr)
氣體流量計 4個浮子流量計,可同時混入4種不同氣體。 四通道控製 精度0.02% 、數字顯示、自動控製、 一個混氣罐、
底部裝有泄廢液口 MFC 1範圍 0~100 sccm MFC 2和3 0~500 sccm 進氣接口 1/4NPS 出氣接口 1/4NPS
產品尺寸 外徑80 & 1000mm 的氧化鋁石英管 爐體尺寸:550 x 500 x 700mm L x W x H 混氣係統:: 600 x 600 x 700mm
真空機組: 600 x 600 x 700mm(更多規格可根據用戶需求定製)
電氣認證 CE認證
售後服務 12個月質保、終身保修
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